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iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統(tǒng)
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iTomic? HiK系列原子層沉積系統(tǒng)
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硼擴(kuò)散
羲和?系列高溫低壓系統(tǒng)
退火
羲和?系列高溫低壓系統(tǒng)
隧穿氧化/多晶硅沉積
祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系統(tǒng)
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統(tǒng)
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統(tǒng)
正膜Al?O?/SiN?
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統(tǒng)
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統(tǒng)
正膜Al?O?
夸父?系列KF20000批量式ALD系統(tǒng)
背膜SiN?
祝融系列ZR5000×1管式PECVD系統(tǒng)
阻隔封裝
電子傳輸層 SnO?
界面層/封裝層 AIO?
產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用中心
產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用中心
iOptomic 系列原子層沉積系統(tǒng)
iTomic? PE系列等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)
后羿?系列 板式ALD系統(tǒng)
iSparol系列卷對(duì)卷ALD系統(tǒng)
iTomic? MW Lite批量輕型系列原子層沉積系統(tǒng)
產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用中心
后羿?系列 板式ALD系統(tǒng)
采用自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的真空腔內(nèi)溫場(chǎng)和流場(chǎng)設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)空間型原子層沉積鍍膜工藝方式,為鈣鈦礦薄膜太陽電池組件產(chǎn)線提供高質(zhì)量氧化物功能層薄膜材料,以確保量產(chǎn)組件的高效率和長壽命。面向平米級(jí)玻璃襯底,高速鍍膜解決方案,適配線型產(chǎn)線的生產(chǎn)節(jié)拍,集成成熟的上下料自動(dòng)化方案,為客戶提供可靠的大規(guī)模量產(chǎn)解決方案。
銷售郵箱
產(chǎn)品特點(diǎn)
適用于正式或反式、單結(jié)或疊層的鈣鈦礦薄膜太陽電池組件
1
針對(duì)平米級(jí)面積玻璃襯底,常用尺寸0.6×1.2 ㎡/1.2×2.4 ㎡可客戶定制
2
制備氧化錫(SnOx)和氧化鋁(AlOx)等高質(zhì)量致密氧化物薄膜
3
優(yōu)異的薄膜厚度面積均勻性,片內(nèi)<5%,批間<5%
4
適配于大面積襯底線性產(chǎn)線的生產(chǎn)節(jié)拍60s/片@ 20nm
5
前臺(tái)熱線:
0510-81975900
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江蘇省無錫市新吳區(qū)長江南路27號(hào)
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