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iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統
iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統采用創新的批量型（mini-batch）腔體設計，可一次處理25片12英寸晶圓，適用于成膜鍍率低，厚度要求高，以及產能要求高的關鍵工藝及應用。iTomic? MW系列產品利用特有的流場設計，具有成膜速度快，占地面積小，產能高、使用成本低等優勢，為存儲芯片以及Micro-OLED顯示器、MEMS等提供定制化量產的解決方案。
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產品特點
25片12寸晶圓（兼容8寸晶圓）MW ALD系統，適用于厚膜或生長率較低的工藝需求
1
提供優異的薄膜片內（WiW）和片間（WtW）均勻性，更好地滿足客戶工藝需求
2
薄膜材料：Al?O?、HfO?、SiO?等
3
與爐管型設備相比，MW ALD系列在減少顆粒度的同時大大降低了熱過程，避免芯片器件在制程中的熱損傷
4
特別適用于高產能、超高深寬比結構器件的量產化鍍膜工藝
5
前臺熱線：
0510-81975900
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